刻蚀设备

刻蚀设备

刻蚀是采用物理或者化学的方法,通过掩膜图形使薄膜材料选择性销蚀的技术,是薄膜制备的“反”过程。我所研发的刻蚀设备主要有离子束刻蚀机、反应离子刻蚀机、等离子体刻蚀机等。

  • 等离子体刻蚀机

    等离子体刻蚀机

    等离子体刻蚀(ICP)是指利用能与被刻蚀材料起化学反应的气体,通过辉光放电使之形成低温等离子体,对样品表面未被掩蔽部分进行腐蚀。是利用活性离子与衬底的化学反应的进行..

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  • 反应离子刻蚀机

    反应离子刻蚀机

    反应离子刻蚀(RIE)是利用射频放电使反应气体电离产生活性离子,利用活性离子与工件表面材料进行化合生成挥发性产物被真空泵抽走,从而实现对工件表面材料的去除,属干法..

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  • 离子束刻蚀机

    离子束刻蚀机

    离子束刻蚀是根据溅射原理,利用离子源引出的离子束,直接轰击工件,将工件上未被掩膜遮蔽的部分材料溅射出来,实现材料去除的目的。离子束刻蚀是纯物理刻蚀过程,在各种常..

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